Device and method of manufacture for a low noise junction field effect transistor

WO2008034026 Art A1 20. März 2008

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008034026
Aktenzeichen: EP07814849
Anmeldetag: 13. September 2007
Veröffentlichung: 20. März 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/335H01L29/78

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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