Method for manufacturing transparent cured film using positive-working photosensitive resin layer for half exposure

WO2008035672 Art A1 27. März 2008

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008035672
Aktenzeichen: EP07807483
Anmeldetag: 18. September 2007
Veröffentlichung: 27. März 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/26G03F7/004G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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