Planar heater and semiconductor heat treatment apparatus provided with the heater

WO2008038477 Art A1 3. April 2008

Anmelder: Covalent Materials Corporation, Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008038477
Aktenzeichen: EP07792829
Anmeldetag: 22. August 2007
Veröffentlichung: 3. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/46H01L21/02H05B3/14H05B3/28H05B3/74H05B3/86

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Covalent Materials Corporation
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von