Superstratum film forming composition and method of forming photoresist pattern

WO2008038590 Art A1 3. April 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008038590
Aktenzeichen: EP07807731
Anmeldetag: 21. September 2007
Veröffentlichung: 3. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/039G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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