Method for removing surface deposits in the interior of a chemical vapor deposition reactor
Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY, E.I. du Pont de Nemours and Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008039465
- Aktenzeichen
- EP07861368
- Anmeldetag
- 25. September 2007
- Veröffentlichung
- 3. April 2008
- Rechtsraum
- WO
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- E. I. du Pont de Nemours and Company
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
E.I. du Pont de Nemours and Company - Land
- 🇺🇸 USA
US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.
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US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.
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