Integrated Substrate Processing in A Vacuum Processing Tool

WO2008039606 Art A1 3. April 2008

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008039606
Aktenzeichen: EP07840866
Anmeldetag: 10. August 2007
Veröffentlichung: 3. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/44C23C16/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von