Film coating apparatus

WO2008041625 Art A1 10. April 2008

Anmelder: National University Corporation Tohoku Unversity, Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008041625
Aktenzeichen: EP07828678
Anmeldetag: 28. September 2007
Veröffentlichung: 10. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C11/00B05C11/08B05D1/40G03F7/16G11B5/84G11B7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National University Corporation Tohoku Unversity
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von