Apparatus for manufacturing semiconductor, method for manufacturing semiconductor device, storage medium, and computer program

WO2008041670 Art A1 10. April 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008041670
Aktenzeichen: EP07828923
Anmeldetag: 1. Oktober 2007
Veröffentlichung: 10. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/302H01L21/677H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von