Method for protecting wafer circuit surface and method for reducing wafer thickness
WO2008044327
Art A1
17. April 2008
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008044327
- Aktenzeichen
- EP07827798
- Anmeldetag
- 19. September 2007
- Veröffentlichung
- 17. April 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/683H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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