Method for protecting wafer circuit surface and method for reducing wafer thickness

WO2008044327 Art A1 17. April 2008

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2008044327
Aktenzeichen
EP07827798
Anmeldetag
19. September 2007
Veröffentlichung
17. April 2008
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/683H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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