Electron beam lithography system and electron beam lithography

WO2008044479 Art A1 17. April 2008

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008044479
Aktenzeichen: EP07828553
Anmeldetag: 27. September 2007
Veröffentlichung: 17. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20H01J37/12H01J37/305

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Advantest Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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