Resist composition for use in lithography method utilizing electron beam, x-ray or euv light

WO2008044741 Art A1 17. April 2008

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008044741
Aktenzeichen: EP07829619
Anmeldetag: 11. Oktober 2007
Veröffentlichung: 17. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Asahi Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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