Cleaning method, apparatus and cleaning system

WO2008044924 Art A2 17. April 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT AG 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008044924
Aktenzeichen: EP07834608
Anmeldetag: 25. September 2007
Veröffentlichung: 17. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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