Methods of and apparatus for accessing a process chamber using a dual zone gas injector wth improved optical access

WO2008045146 Art A1 17. April 2008

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008045146
Aktenzeichen: EP07796034
Anmeldetag: 12. Juni 2007
Veröffentlichung: 17. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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