Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Coating Process

WO2008045226 Art A1 17. April 2008

Anmelder: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC., The Dow Global Technologies Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008045226
Aktenzeichen: EP07839068
Anmeldetag: 27. September 2007
Veröffentlichung: 17. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/503C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC.
The Dow Global Technologies Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Dow Global Technologies

US-amerikanisches Tochterunternehmen des Chemiekonzerns Dow, das geistiges Eigentum verwaltet und Patente aus Forschung zu Kunststoffen, Chemikalien und Materialwissenschaften der Dow-Gruppe hält.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von