Film coating apparatus and film coating method

WO2008047541 Art A1 24. April 2008

Anmelder: National University Corporation Tohoku Unversity, Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008047541
Aktenzeichen: EP07828503
Anmeldetag: 27. September 2007
Veröffentlichung: 24. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C11/04B05C11/10B05D3/00B05D3/04G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National University Corporation Tohoku Unversity
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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