Near field exposure mask, method of forming resist pattern using the mask, and method of producing device

WO2008047733 Art A1 24. April 2008

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008047733
Aktenzeichen: EP07829751
Anmeldetag: 5. Oktober 2007
Veröffentlichung: 24. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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