Methods and apparatus for wet cleaning electrode assemblies for plasma processing apparatuses

WO2008048443 Art A1 24. April 2008

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008048443
Aktenzeichen: EP07852627
Anmeldetag: 10. Oktober 2007
Veröffentlichung: 24. April 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/306H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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