Method for manufacturing epitaxial silicon wafer, and epitaxial silicon wafer

WO2008050476 Art A1 2. Mai 2008

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008050476
Aktenzeichen: EP07827922
Anmeldetag: 19. Oktober 2007
Veröffentlichung: 2. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/06C30B25/12C30B25/14H01L21/20H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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