Shower plate sintered integrally with gas release hole member and method for manufacturing the same

WO2008050567 Art A1 2. Mai 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited, National University Corporation Tohoku Unversity 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008050567
Aktenzeichen: EP07828386
Anmeldetag: 26. September 2007
Veröffentlichung: 2. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31C23C16/455H01L21/3065H01L21/316H01L21/318

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
National University Corporation Tohoku Unversity
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von