Compound and polymeric compound

WO2008053698 Art A1 8. Mai 2008

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD., Daito Chemix Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008053698
Aktenzeichen: EP07829837
Anmeldetag: 15. Oktober 2007
Veröffentlichung: 8. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/22C07C69/54C07C69/653G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD.
Daito Chemix Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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