Apparatus for inspecting fine structure, method for inspecting fine structure and substrate holding apparatus
WO2008053929
Art A1
8. Mai 2008
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008053929
- Aktenzeichen
- EP07830978
- Anmeldetag
- 31. Oktober 2007
- Veröffentlichung
- 8. Mai 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66B81C5/00H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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