Optical element, liquid immersion exposure apparatus, liquid immersion exposure method, and method for producing micro device

WO2008054003 Art A1 8. Mai 2008

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008054003
Aktenzeichen: EP07831169
Anmeldetag: 29. Oktober 2007
Veröffentlichung: 8. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/11G02B1/02G03F7/09G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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