Reflow method, pattern-forming method, and method for manufacturing tft

WO2008056614 Art A1 15. Mai 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008056614
Aktenzeichen: EP07831150
Anmeldetag: 2. November 2007
Veröffentlichung: 15. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/40H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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