Refraction index measuring method, refraction index measuring apparatus and method for manufacturing optical member

WO2008056702 Art A1 15. Mai 2008

Anmelder: Osaka University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008056702
Aktenzeichen: EP07831373
Anmeldetag: 7. November 2007
Veröffentlichung: 15. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/41

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Osaka University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

2.434 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von