Methods and apparatus for cleaning chamber components

WO2008057351 Art A2 15. Mai 2008

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008057351
Aktenzeichen: EP07861597
Anmeldetag: 31. Oktober 2007
Veröffentlichung: 15. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/00B08B5/00B08B5/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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