Ion implantation device with a dual pumping mode and method thereof

WO2008058246 Art A2 15. Mai 2008

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc., Olson, Joseph C. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008058246
Aktenzeichen: EP07864132
Anmeldetag: 8. November 2007
Veröffentlichung: 15. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/08H01J37/302H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Olson, Joseph C.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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