Compound, acid generator, resist composition, and resist pattern formation method

WO2008059679 Art A1 22. Mai 2008

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008059679
Aktenzeichen: EP07829408
Anmeldetag: 9. Oktober 2007
Veröffentlichung: 22. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C07D333/76G03F7/004G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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