Method for supplying treatment gas, treatment gas supply system, and system for treating object

WO2008059831 Art A1 22. Mai 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008059831
Aktenzeichen: EP07831732
Anmeldetag: 13. November 2007
Veröffentlichung: 22. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: B01J4/00G01F1/00G01F1/68G05D7/06H01L21/205H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Hitachi Metals, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

1.209 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Steuerungs- & Regelungstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von