Photosensitive resin composition for forming column spacer of liquid crystal display, method for forming column spacer using the composition, column spacer formed by the method, and display device comprising the column spacer
WO2008060011
Art A1
22. Mai 2008
Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008060011
- Aktenzeichen
- EP06835271
- Anmeldetag
- 19. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 22. Mai 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CHEIL INDUSTRIES INC.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
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