Verfahren zum Entfernen von Kontaminationen auf Optischen Oberflächen und Optische Anordnung

WO2008061690 Art A1 29. Mai 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008061690
Aktenzeichen: EP07846674
Anmeldetag: 20. November 2007
Veröffentlichung: 29. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT AG
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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