Electron-beam exposing device, and electron-beam exposing method

WO2008062513 Art A1 29. Mai 2008

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008062513
Aktenzeichen: EP06833048
Anmeldetag: 21. November 2006
Veröffentlichung: 29. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20H01J37/305

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Advantest Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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