Electron beam irradiation system
WO2008062670
Art A1
29. Mai 2008
Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008062670
- Aktenzeichen
- EP07831339
- Anmeldetag
- 7. November 2007
- Veröffentlichung
- 29. Mai 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G21K5/04B01J19/12G01T1/24H01J37/244H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hamamatsu Photonics K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hamamatsu Photonics
Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.
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Vertreten von
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