Gas analyzing system, lithographic apparatus and method of improving a sensitivity of a gas analyzing system

WO2008063056 Art A2 29. Mai 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008063056
Aktenzeichen: EP07834675
Anmeldetag: 8. November 2007
Veröffentlichung: 29. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G01N1/22G01N33/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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