Chalcogenide Sputtering Target

WO2008063889 Art A2 29. Mai 2008

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008063889
Aktenzeichen: EP07871393
Anmeldetag: 7. November 2007
Veröffentlichung: 29. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/06C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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