Abatement system for gallium nitride reactor exhaust gases

WO2008064085 Art A2 29. Mai 2008

Anmelder: S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008064085
Aktenzeichen: EP07854668
Anmeldetag: 15. November 2007
Veröffentlichung: 29. Mai 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G06F17/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies

S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies war ein französischer Hersteller von Silizium-auf-Isolator-Wafern für die Halbleiterindustrie, das heutige Unternehmen firmiert als Soitec. Der Patentbestand konzentriert sich fast ausschließlich auf Halbleiterbauelemente und Waferbondverfahren.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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