Immersion exposure coat film forming apparatus and immersion exposure coat film forming method

WO2008065924 Art A1 5. Juni 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008065924
Aktenzeichen: EP07832124
Anmeldetag: 19. November 2007
Veröffentlichung: 5. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C9/14B05C11/00B05C11/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von