Positive radiation-sensitive resin composition and pattern forming method

WO2008066011 Art A1 5. Juni 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008066011
Aktenzeichen: EP07832519
Anmeldetag: 27. November 2007
Veröffentlichung: 5. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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