Semiconductor device production apparatus and semiconductor device production method

WO2008066013 Art A1 5. Juni 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008066013
Aktenzeichen: EP07832526
Anmeldetag: 27. November 2007
Veröffentlichung: 5. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205B05C5/00B05C11/00H01L21/288H01L21/336H01L21/8242H01L27/108H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von