Method for producing polymer, composition for forming insulating film, and silica insulating film and method for producing the same

WO2008066060 Art A1 5. Juni 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008066060
Aktenzeichen: EP07832624
Anmeldetag: 28. November 2007
Veröffentlichung: 5. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/50C09D183/14H01B3/46H01L21/316H01L21/768H01L23/522

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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