Film forming method, film forming apparatus, storage medium and semiconductor device

WO2008066172 Art A1 5. Juni 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008066172
Aktenzeichen: EP07832892
Anmeldetag: 30. November 2007
Veröffentlichung: 5. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/314C23C16/26C23C16/511H01L21/31H01L21/768H01L23/522

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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