Resolution Enhancement in Optical Lithography Via Absorbance-Modulation Enabled Multiple Exposures

WO2008067237 Art A1 5. Juni 2008

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008067237
Aktenzeichen: EP07864767
Anmeldetag: 26. November 2007
Veröffentlichung: 5. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14G03F7/20G03F7/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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