Surface modifier for resist and method for the formation of resist patterns with the same
WO2008069014
Art A1
12. Juni 2008
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008069014
- Aktenzeichen
- EP07832092
- Anmeldetag
- 19. November 2007
- Veröffentlichung
- 12. Juni 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/38H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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