Resist underlayer film forming composition for lithography, containing aromatic fused ring-containing resin

WO2008069047 Art A1 12. Juni 2008

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008069047
Aktenzeichen: EP07832566
Anmeldetag: 27. November 2007
Veröffentlichung: 12. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C08L25/00C08F212/32C08F226/12C08F232/08G03F7/11G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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