Cleaning liquid, cleaning method, liquid generating apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method

WO2008069211 Art A1 12. Juni 2008

Anmelder: Nikon Corporation, Kurita Water Industries Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008069211
Aktenzeichen: EP07850062
Anmeldetag: 4. Dezember 2007
Veröffentlichung: 12. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nikon Corporation
Kurita Water Industries Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Kurita Water Industries

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Wasseraufbereitungstechnologien und Chemikalien für industrielle Anwendungen.

705 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von