Plasma radiation source with rotating electrodes and liquid metal provider

WO2008069654 Art A1 12. Juni 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008069654
Aktenzeichen: EP07834720
Anmeldetag: 26. November 2007
Veröffentlichung: 12. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von