Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

WO2008074673 Art A2 26. Juni 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008074673
Aktenzeichen: EP07847999
Anmeldetag: 7. Dezember 2007
Veröffentlichung: 26. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/30G02B27/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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