Photosensitive resin composition for forming insulating film, hardened film thereof and electronic part having the same
WO2008075495
Art A1
26. Juni 2008
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008075495
- Aktenzeichen
- EP07829353
- Anmeldetag
- 5. Oktober 2007
- Veröffentlichung
- 26. Juni 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/038H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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