Gas for plasma reaction, dry etching method, and method for forming fluorocarbon film

WO2008075637 Art A1 26. Juni 2008

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008075637
Aktenzeichen: EP07850701
Anmeldetag: 17. Dezember 2007
Veröffentlichung: 26. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C08F2/52C08F36/04C23C16/50C07C23/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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