Thin film structure, microactuator, optical shutter device, luminous flux adjusting device and microswitch

WO2008075778 Art A1 26. Juni 2008

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008075778
Aktenzeichen: EP07860000
Anmeldetag: 18. Dezember 2007
Veröffentlichung: 26. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: B81B3/00G02B26/02G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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