Reducing Fast Ions in A Plasma Radiation Source Having A Second Activation Source

WO2008075952 Art A2 26. Juni 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008075952
Aktenzeichen: EP07851930
Anmeldetag: 19. Dezember 2007
Veröffentlichung: 26. Juni 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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